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parole chiave [ semiconductor coating tantalum sputtering target ] incontro 5 prodotti.
PVD Coating Tantalum Sputtering Target per il rivestimento dei semiconduttori e il rivestimento ottico
| Nome: | Obiettivo di rivestimento PVD Tantal |
|---|---|
| Grado: | Ta1 Ta2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| Purezza: | ≥99.95% |
molibdeno di 20mm che farfuglia gli obiettivi per i prodotti del molibdeno del disco del molibdeno dell'obiettivo del molibdeno di industria a semiconduttore
| nome: | Molibdeno che farfuglia gli obiettivi per l'industria a semiconduttore |
|---|---|
| Materiale: | Molibdeno e lega di molibdeno |
| Purezza: | 99,95% |
Sputter di alta purezza di rivestimento di tantallo bersaglio di disco di tantallo bersaglio 99,95% 99,999%
| Nome: | Obiettivo di rivestimento con sputter di tantallo |
|---|---|
| Grado: | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| Purezza: | 99.95% 99,99% |
Zr702 Zr705 bersaglio di zirconio legata di titanio di zirconio bersaglio di rivestimento da sputter
| Nome: | Zr702 Zr705 bersaglio di zirconio legata di titanio di zirconio bersaglio di rivestimento da sputter |
|---|---|
| Materiale: | Zirconio e lega di zirconio |
| Grado: | Zr702,Zr704,Zr705,RO60001,RO60901,RO60804 |
10 mm di spessore Piastra tonda di tantallo annelato ASTM B708 Ta Disc
| Nome: | Dischi di tantallo |
|---|---|
| Grado: | Ta1 Ta2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| Spessore: | 0.2~50 mm |
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