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Sputter di alta purezza di rivestimento di tantallo bersaglio di disco di tantallo bersaglio 99,95% 99,999%

Luogo di origine	Cina
Marca	PRM
Certificazione	ISO9001
Numero di modello	Costumi
Quantità di ordine minimo	1pc
Prezzo	Negotiate
Imballaggi particolari	Cassa in compensato
Tempi di consegna	7~10 giorni del lavoro
Termini di pagamento	T/T, L/C
Capacità di alimentazione	5000 kg/mese

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Dettagli

Nome	Obiettivo di rivestimento con sputter di tantallo	Grado	RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
Purezza	99.95% 99,99%	Forma	Disco e piastra
Dimensione	Secondo il disegno del cliente	Densità	16,75 g/cm3

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Descrizione di prodotto

Target di alto livello di purezza Sputter Coating Tantalum Target di disco di tantallo

1. Specificativi di sputter con rivestimento di tantallo:

Sputter Coating Tantalum Target

Materiale: R05200, R05400, R05252 (Ta-2,5W), R05255 (Ta-10W)

Obiettivi circolari: Dia 25 mm ~ 400 mm x Spessore 3 mm ~ 28 mm

Obiettivi rettangolari: spessore 1 mm ~ 12,7 mm x larghezza < 600 mmx lunghezza < 2000 mm

Purezza: >= 99,95% o 99,99%

Superficie: lucida, lucidata

Condizione: annelato

Possiamo anche elaborare in base alla vostra richiesta.

Grado	3N, 3N5, 4N, con Ta 99,99%min
Ricristallizzazione	95% min
Dimensione del grano	ASTM 4 o più fine
Finitura superficiale	16 Rms max. o Ra 0,4 (RMS 64 o superiore)
Piatto	0.1 mm o 0,15% massimo
Tolleranza	+/- 0,010" su tutte le dimensioni

Sputter di alta purezza di rivestimento di tantallo bersaglio di disco di tantallo bersaglio 99,95% 99,999% 0

2Composizione chimicadi sputter con rivestimento di tantallo:

Grado	Contenuto di elementi%)
Grado	C	N	O	H	Fe	- Sì.	Ni	Ti	Mo.	W	Nb	- Si '.
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	Rimanete.
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	Rimanete.
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~3.5	Rimanete.
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17 ~ 23	Rimanete.
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35 ~ 42	Rimanete.
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~3.5	0.5	Rimanete.
TaW7.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	Rimanete.
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	Rimanete.

3Applicazionedi sputter con rivestimento di tantallo:

L'obiettivo di sputtering del tantallo è una lastra di tantallo ottenuta attraverso la lavorazione a pressione.È utilizzato principalmente nelle fibre ottichePer i rivestimenti a deposizione di sputter, i bersagli di tantalio possono essere utilizzati per i rivestimenti a sputtering a catodo, i materiali attivi ad alto vuoto, ecc.e sono materiali importanti per la tecnologia del film sottile.

4Vantaggio del nostro bersaglio Sputter Coating:

- superfici lucide di alta qualità.
- il grano uniforme con microstruttura densificata garantisce una durata di utilizzo più lunga.

- un servizio post-vendita professionale.

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