Tutti i prodotti
-
DavidBuona società con servizio e alta qualità piacevole ed alta reputazione. Uno del nostro fornitore affidabile, merci è consegnato a tempo ed il pacchetto piacevole. -
John MorrisEsperti materiali, elaborazione rigorosa, scoperta tempestiva dei problemi negli schizzi e della comunicazione con noi, servizio premuroso, prezzo ragionevole e buona qualità, credo che abbiamo più cooperazione. -
JorgeGrazie per il vostro buon servizio di assistenza al cliente. La competenza eccellente ed il supporto tecnico mi hanno aiutato molto. -
PETRAcon la comunicazione molto buona tutti i problemi risolti, soddisfatto con il mio acquisto -
Adrian HayterLe merci hanno acquistato questo volta molto sono soddisfatte, la qualità è molto buona ed il trattamento di superficie è molto buono. Credo che ordiniamo l'ordine seguente presto.
RO5200 Ta1 bersaglio rotante di tantallo bersaglio tubo di tantallo 100 mm per PVD CVD
Contattimi gratis campioni e buoni.
whatsapp:0086 18588475571
Wechat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Se avete di preoccupazione, forniamo la guida in linea di 24 ore.
xDettagli
| Nome | Obiettivo di rotazione del tantallo | Grado | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
|---|---|---|---|
| Densità | 160,68 g/cm3 | Peso atomico | 180.94788 |
| Metodo di sputtering | DC | Conduttività termica | 57 W/m.K |
| Evidenziare | Obiettivo di rotazione del tantallo CVD,Obiettivo di tantallo Ta1,Tubo di tantallo bersaglio 100 mm |
||
Descrizione di prodotto
Informazioni sul prodotto:
Il bersaglio del tubo di tantalio è un bersaglio di tantalio tubulare, noto anche come bersaglio rotante di tantalio.
| Nome | Obiettivo di rotazione del tantallo Obiettivo del tubo di tantallo |
| Purezza | ≥ 99,95% |
| Grado | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| Densità | 160,68 g/cm3 |
| Peso atomico | 180.94788 |
| Metodo di sputtering | DC |
| Conduttività termica | 57 W/m.K |
| Coefficiente di espansione termica | 6.3 x 10-6 /K |
| Dimensione | OD: 20~300 mm Spessore della parete: ≥ 0,5 mm |
Applicazione dell'obiettivo di rotazione Ta:
L'obiettivo del tubo di tantalio è una materia prima di tantalio ad alta purezza per la deposizione di sputter, che può essere utilizzata nei semiconduttori,Display e applicazioni ottiche per la deposizione chimica di vapore (CVD) e la deposizione fisica di vapore (PVD)I dettagli sono i seguenti:
- per semiconduttori;
Display di deposizione chimica dei vapori (CVD);
Display di deposizione fisica dei vapori (PVD);
- Applicazioni ottiche.
Nota:Forniamo servizi personalizzati. Se non riesci a trovare il target che desideri, contattaci direttamente. Possiamo personalizzare in base alle tue esigenze.
Prodotti raccomandati